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真空鍍膜設備

科技創(chuàng)新為動力 專業(yè)服務為目標

磁控濺射鍍膜設備


  真空鍍膜具有以下特點:
  高電阻負。真空鍍膜后的RT量大大減少。鍍鋁前后阻隔性能與老化2、15和CPP的比較
  在軟包裝中,使用較廣的鍍鋁膜是PM和CPP滲鋁膜,分為普通真空鍍鋁膜和增強滲鋁膜兩種。
  普通真空滲鋁膜是一種在高真空狀態(tài)下將蒸氣沉淀并堆積在基膜上的薄膜。滲鋁層厚度一般在3邊左右(如某企業(yè)標推要求,鍍鋁層厚度為350Ai8%)。8%)。真空滲鋁膜不但具有原基膜的力學性能,而且具有較強的裝飾性和較好的阻隔性。
  滲鋁后的蒸汽和氧氣透過率和透光率大大降低,可用作較好的阻隔材料。

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